반도체 제조용 건식 스크류 진공펌프

마이크로칩 생산, 실리콘 웨이퍼 코팅, 에칭 등 반도체 제조에서 가장 까다로운 공정을 위해 설계되었습니다.

제품 작동 원리

Screw Pumps Cobra Semicon Stage

반도체 산업을 위한 첨단 진공 기술

COBRA Semicon 진공 펌프의 작동 원리는 당사의 최신 스크류 기술을 기반으로 합니다. 특허 받은 자체 균형 스크류를 통해, 이 진공 펌프는 반도체 제조의 효율과 신뢰성 측면에서 새로운 기준을 세웠습니다.

COBRA Semicon 진공 펌프는 대용량 처리 능력과 높은 증기 및 입자 수용성을 결합합니다. 그러므로 입자가 포함된 물질을 아무런 문제 없이 배출할 수 있습니다. 오일프리 및 비접촉 작동 원리는 낮은 유지보수 요구 사항, 낮은 운영 비용, 긴 수명 주기를 보장합니다.

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Cobra Bc 1000 F Technology

COBRA BC 1001 G

건식 스크류 진공펌프의 유형

COBRA Semicon 건식 스크류 진공펌프는 반도체 제조의 다양한 공정 외에도, 태양광 전지 생산, 평면 패널 디스플레이 생산, 그리고 수많은 코팅 응용 분야에도 이상적인 선택입니다.

제품 시리즈	펌프용량	유형
COBRA BC	100 m³/h - 1,580 m³/h	Semicon
COBRA DS	70 m³/h - 6,000 m³/h	Semicon

COBRA Semicon 시리즈에 대해 알아보기

COBRA BC

경량에서 중량급 반도체 응용 분야에 이상적인 솔루션

Cobra Bc 1200 A

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COBRA DS

까다로운 반도체 공정을 위한 차세대 건식 진공 펌프

Cobra Ds 1200 A Product Finder

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COBRA BC

경량에서 중량급 반도체 응용 분야에 이상적인 솔루션

고급 스크류 설계
건식 및 비접촉 작동 원리
특화된 "플라잉 베어링" 설계
캔틸레버 구조
어디에나 설치가 가능한 컴팩트한 설계
직결 수냉식
완전 개방형 통신 프로토콜

Cobra Bc 0101 G Content

COBRA 0101 BC G

전체 COBRA BC 제품

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COBRA DS

까다로운 반도체 공정을 위한 차세대 건식 진공 펌프

고급 스크류 설계
건식 및 비접촉 작동 원리
우수한 파우더 처리
효과적인 간접 수냉식
어디에나 설치가 가능한 컴팩트한 설계
수소 배출을 위한 높은 흡입 용량
고효율 모터
통합형 진공 부스터가 장착된 다양한 사이즈 제공 가능

Cobra Ds 1200 A Content

COBRA DS 1200 A

전체 COBRA DS 제품

COBRA DS
COBRA DS 2141 A
1361800580

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반도체 응용 분야

반도체 제조에는 무오염 환경과 높은 진공 레벨이 필요합니다. 당사의 COBRA Semicon 건식 스크류 진공펌프는 이러한 요구 사항을 충족합니다. 연락처 당사의 전문가가 완벽한 진공 솔루션을 찾을 수 있도록 도와드립니다.

건식 스크류 진공 기술이 다양한 반도체 응용 분야에서 사용되는 방법에 대해 자세히 알아보십시오.

FAQ