AMC-Überwachung im Reinraum

Airborne Molecular Contamination (AMC) ist als eine der Hauptursachen für Wafer-Defekte bekannt, die zu Ertragsverlusten in der Halbleiterproduktion führen. AMC in Reinräumen kann durch verschiedene Faktoren erzeugt werden, vom Bediener über den Prozess bis hin zur externen Umgebung. Da die Abmessungen der Chip-Knotenpunkte immer kleiner werden, ist die Überwachung der Reinraumumgebung für die meisten führenden Halbleiterproduzenten ein wichtiges Anliegen. Darüber hinaus ist eine AMC-Überwachung in Echtzeit und mit extrem hoher Empfindlichkeit erforderlich, um Wafer-Defekte zu vermeiden. Pfeiffer Vacuum bietet Echtzeit-AMC-Reinraumüberwachungslösungen mit einer Empfindlichkeit von ppb (parts per billion) bis ppt (parts per trillion) an, die speziell für die Spitzentechnologie in der Halbleiterfertigung entwickelt wurden.