源、光束线、终端站

它是如何工作的？

为了在等离子体中产生离子，加速离子体并减少它们在通向晶圆途中的碰撞，需要高真空环境。因此，典型运行压力范围为 10-6 至 10-9 mbar。在离子源区域内，工艺气体被引入，由热金属丝电离，并通过电极提取。引入的气体只有少数会被电离并提取。注入工艺中最常用的气体为砷化氢 (AsH3)、磷化氢 (PH3)、硼烷 (BH3) 甚或锗 (Ge)。在光束线区域内，离子得到聚焦，并在由质量分离磁体产生的磁场中加速。在终端站区域内，掺杂离子注入晶圆。装载互锁室则用于将晶片从大气环境下送入注入工具内。

真空要求

离子源典型目标压力范围为 5·10-6 mbar。离子注入工艺会使用到有害性及反应性材料，它们需要由真空泵处理。用于注入工艺的涡轮分子泵，其设计须能耐受此类化学品。针对某些配方（基于 pH~3 或锗），我们建议使用加热版本以防副产品积聚。取决于设备和晶圆规格，要求的泵速通常介于 1,200 至 3,000 l/s 之间。对于离子源区域内的干式泵，需要采用特别的泄漏检查方式，因为任何一处泄漏都将剧烈缩短工艺寿命。氮气吹扫是必需的，并须采用工艺级氮气。 光束线区域内典型压力范围为 9·10-7 mbar。取决于所进行的注入类型，有几种耐腐蚀涡轮分子泵型号可供选用，抽速通常介于 700 - 1,200 l/s 之间。

终端站区域的典型压力范围为 5·10-8 mbar，主要由低温泵确保。在装载互锁室内，工艺视为绝对洁净。此区域内的真空范围要求为 9·10-7 mbar，此处使用典型抽速可达 300 l/s 的 HiPace 涡轮分子泵。

产品系列

普发真空提供全系列的涡轮泵和初级干式泵，以应对相关挑战。HiPace 涡轮分子泵配备复合轴承，可提供高真空度并且允许高温运行。以可任选的抗腐蚀性能为特色，我们的 HiPace 系列已获得先进离子注入工具领域内各大 OEM 厂商的肯定。我们的 A604H 机型源自 A4 系列设计非常适用于注入应用，可在地下室内运行。专门设计适用于源腔室的 A124H MD 机型结构紧凑，易于集成，并具备高工艺稳健性，从而也可延长使用寿命。针对各种密封装置的抽气，我们的 ACP 系列得到了各大注入工具制造商的认可。作为加载互锁真空室的主泵，我们的完整解决方案（链接：转到晶圆搬运）完美适合此类应用。