플라즈마 물리학

플라즈마를 물질의 4번째 상태라고 합니다. 플라즈마는 하전 입자의 백분율이 1에서 100 사이에서 변할 수 있는 이온화된 기체입니다. 현대 생활 제품에서는 플라즈마 공정이 절대적으로 중요합니다. 마이크로 컨트롤러나 박막 코팅 응용 부문과 같은 반도체 장치 생산에서 많은 공정 단계가 플라즈마 공정의 도움으로 수행되고 있습니다. 진공의 필요성은 실험 환경에서 원자나 분자의 충분한 평균 자유 경로가 있어야 할 뿐 아니라 순도가 높아야 할 필요성에서 비롯됩니다. 대부분의 응용 분야에서 실제 플라즈마 스퍼터 공정은 중간에서 높은 진공 상태 즉, p = 10-2 ~ 1 Pa 사이에서 진행됩니다. 아르곤과 같은 스퍼터 가스를 도입하기 전에 고순도를 유지할 수 있으려면 공정 챔버를 UHV: p <10 -5 Pa 수준으로 비워야 하는 경우가 종종 있습니다.