정의 평면 위에 구축됩니다. 생산 공정에서 특수한 전자적 속 성을 가진 층들(절연체, 컨덕터 및 특정한 전도 속성을 가진 층들)이 서로의 상단에 부착됩니다. 인접한 층들의 서로 다른 속성으로 인해 트랜지스터, 커패시터 콘덴서, 저항기와 같은 전자 구성품들이 만들어집니다.
통합된 회로를 생산하는 동안 반도체 기초 재료의 도핑, 층들 의 구축, 구조화, 분석과 같은 많은 다른 공정에서 진공 기술 이 사용됩니다. 생산은 청정실에서 일어납니다. 진공 펌프는 클린룸의 생산 기계에서 직접 아니면 청정실 바로 밑에 있는 별도의 펌프 바닥(지하층)에서 사용됩니다.
이 공정들은 사용되는 펌프에 대해 요구사항이 서로 다릅니 다. 부식, 독성 또는 응축 가능한 매개체가 없는 공정은 부식 성 기체를 다루기 위해 특별히 장착되지 않은 펌프로 작동될 수 있습니다. 이 공정에는 다음이 포함됩니다.
부하 락 및 이송 챔버
반응성 기체 대기 없는 금속의 물리적 증착법(PVD)
주입기(Beam Line 및 End Station)
진공 또는 불활성 기체 대기 상태에서의 담금질(결정체 결 함 베이크 아웃)
웨이퍼 검사
사용되는 펌프(L 시리즈)는 4.6.3장에서 설명됩니다. 청정실 에서 펌프를 직접 사용한다는 것은 펌프 바닥의 전진공 라인 과 요구되는 모든 가열이 필요 없을 뿐만 아니라 전도성 손실 이 줄어들 수 있고 높은 공정 안정성을 가진 재생 가능 설치 가 실현될 수 있음을 의미합니다.
중형 어플리케이션은 응축 경향을 가진 부식성 화학 물질을 수반할 수는 있지만 입자를 재생하지는 않습니다. 이 유형의 어플리케이션에는 다음과 같은 서로 다른 공정이 포함됩니 다.
산화, 회분화
RTP(신속한 열 처리, 높은 등급의 할로겐 조명 고온 공정 에서 웨이퍼 처리)
다결정 실리콘, 알루미늄 또는 텅스텐의 건조 식각
주입기(소스)
특정한 CVD 공
사용되는 펌프(P 시리즈)는 4.6.4장에서 설명됩니다. 안전 이 유 때문에 그리고 폐기체 정화 시스템에 가깝기 때문에 공정 펌프가 종종 지하층에 설치됩니다.
가장 많이 요구되는 공정(거친 공정, H-시리즈 펌프)으로 인 해 입자, 매우 부식성 높은 화학 물질이나 반응 부산물 또는 응축 경향이 있는 화학 물질이나 반응 부산물을 처리하는 것 이 필요합니다. 이런 공정의 예는 다음과 같습니다.
질화 티타늄의 MOCVD(유기 금속 화학 증착)
유전체의 등방성 건조 식각
실리콘 2산화물의 HDP CVD(고밀도 플라스마 화학 증착)
실리콘 2산화물의 SACVD(준상압 화학 증착)
실리콘 2산화물의 SACVD HARP(준상압 화학 증착, 고종 횡비 공정)
터보분자 펌프(4.9.3.2장 참조)와 건식 공정 펌프의 결합은 때로 이 공정에서도 사용됩니다.
전에 언급한 P 및 H 펌프의 공정은 예를 들어 다음과 같은 성 질을 가진 화학 물질을 사용합니다.
아르신(AsH3) 또는 포스핀(PH3)과 같은 높은 독성
플라즈마 활성 삼불화 질소(NF3), 육불화 황(SF6), 불화탄 소 등과 같은 높은 부식성
플라스마 활성 산소 또는 오존과 같은 높은 산화 속성
테트라 에틸 실리케이트(TEOS), 트리실리라민(TSA) 같은 금속 유기 화학 물질
진공 기술과 진공 공정 기술에 대한 확장된 지식은 장기적 안 정성 및 최소 소유 비용이 드는 실행 가능한 솔루션을 정의하 는 데에 필요합니다. 여기에는 예를 들면 너무 낮은 온도, 너 무 높은 온도에서의 분말 형성 또는 화학 물질이 펌프 바디에 너무 오랫동안 남아 있을 경우 펌프의 폐색으로 인한 응축을 방지하기 위하여 펌프 작동 온도를 정의하는 것이 포함됩니 다. 게다가 온도 패턴의 정밀한 제어가 펌프 자체에 뿐만 아 니라 생산 공장, 전진공 라인, 배기가스 라인에도 종종 필요 합니다.
태양열 산업과 디스플레이 제조에서의 진공 공정은 반도체 산업에서 사용되는 공정과 종종 유사합니다. 하지만 이 산업 부문에서는 코팅되어야 할 표면이 더 크기 때문에 기체 처리 량이 더 크고 따라서 높은 펌프 속도를 가진 펌프를 요구합니 다.
예를 들어 태양열 산업에서는 표면에 보호막을 씌우는 반사 방지 층과 질화 규소 층이 태양광을 더 잘 받아들이기 위한 플라스마 CVD 공정에서 태양 전지에 적용됩니다. 이것들은 원하는 대로 기질 위에 뿐만 아니라 진공실의 벽에도 퇴적됩 니다. 공정 챔버는 벽에 축적된 층들이 더 이상 제어된 진공 공정을 허락하지 않는 최후의 순간에 청소되어야 합니다. 이 것은 강력한 산화제 NF3 와 함께 현장 플라스마 세정으로 행 해집니다. 펌프(이 경우엔 AD 73 KH, 4.6.5장 참조)가 너무 낮은 온도에서 작동될 경우엔 그림 4.10에 나와 있는 것처 럼 반응 생성물 암모늄 헥사 플루오르가 펌핑 스테이션에 퇴 적됩니다. 이상적인 공정 제어에는 공정 호환 가능 펌프와 공 정 매개변수의 확실히 믿을 수 있고 자격이 있는 세트 뿐만 아니라 다음이 포함됩니다.
그곳에 응축물이 생기는 것을 방지하기 위한 가열된 전진 공 라인
수직 전징공 라인의 경우 물체가 펌프 속으로 떨어지는 것 을 방지하기 위한 보호 장치(예: 수직으로 더 낮은 말단에 끝 마개가 있고 펌프에 수평 출력이 있는 T-조각)
입자가 날리는 것을 방지하기 위한 소프트 스타트 밸브
전진공 라인에서 정비 작업 시에도 고온에서 펌프의 연속 작동을 위한 펌프 유입구의 차단 밸브
가능한 한 배압 펌프 근처의 전진공 라인에 누출 감지기 연결. 누출은 실리콘 2산화물 입자의 형성을 이끕니다.
펌프와 배기가스 청소 시스템 사이의 가열된 배기가스 라 인
배기가스 청소 시스템
:grayscale(false):format(webp))
그림 4.10: 무척 낮은 온도에서 작동되는 루츠 펌프의 암모늄 헥사 플루오르 (NH4) 2SIF6 의 응축
:grayscale(false):format(webp))
그림 4.11: 다단계 루츠 펌프의 작동 원리 공정 펌프
전 섹션에서 설명된 펌프와 마찬가지로 이 장에서 설명되는 루츠 진공 펌프는 기술적으로 건식 회전 변위 진공 펌프의 카 테고리에 속해 있습니다. 이 섹션에서는 부식성 공정을 위한 펌프와 부하 락 및 이송 챔버를 위한 펌프에서 파생된 펌프를 다룹니다.
펌프에서는 두 개의 동기 역회전 로터(1)가 단일 하우징(2)에 서 비접촉 회전합니다(그림 4.11 참조). 로터는 8자형 구성 이고, 좁은 간격으로 서로 분리되어 있습니다. 로터의 4~6개 부품이 로터 샤프트에 위치해 있습니다. 각각의 로터 공동은 기체 구멍이 있는 고정자 디스크에 의해 서로 분리되어 있습 니다. 전달된 기체는 유입구에서 출구로 펌프됩니다. 수직 펌 프 방향은 공정 펌프에서 항상 중요합니다. 배출구 채널의 여 러 스테이지 사이의 공간은 결과적으로 입자 트랩으로 사용 될 수 있습니다. 이것이 펌프의 폐색을 피하는 최선의 방법입 니다.
흡입실에서는 마찰이 일어나지 않기 때문에 루츠 진공 펌프 는 최대 6,000 rpm의 높은 회전 속도로 작동될 수 있습니다. 샤프트 축 주변에 로터 질량의 대칭 분배는 완벽한 동적 균형 을 낳으며, 이는 펌프가 자체의 높은 속도에도 불구하고 매우 조용히 작동됨을 의미합니다.
펌프와 소음기에서 화학 물질의 응축을 피하기 위하여 화학 물질은 냉각수 흐름을 조절함으로써 달궈질 수 있고 아니면 가열 슬리브로 전기적으로 가열될 수 있습니다. 출구 소음기 가 분리 배열될 경우엔 추가 가열 슬리브가 필요합니다. 출구 소음기를 직접 펌프 블록에 통합하는 것은 추가 히터를 필요 로 하지 않음으로써 에너지 비용을 줄일 뿐만 아니라 설치를 더 수월하게 해줍니다.
부식성 기체 버전에서 다단계 루츠 펌프의 이점에는 다음이 포함됩니다.
온도, 퍼지 기체 처리랑, 회전 속도를 조정함으로써 관련 된 진공 공정으로 이상적인 조정
기체 변위 영역에서 윤활 없음
작동 유체 처리 문제 없음
높은 신뢰성과 시스템 가동 시간
긴 서비스 간격, 낮은 전력 소모, 냉각수 및 플러싱 기체의 중간 소모, 결과적으로 낮은 소유 비용
청정실과 펌프 수준에서 통합과 절감이 양호한 작은 설치 면적
광범위한 제어 옵션, 국부 또는 원격 제어, 모니터링 네트 워크의 통합
최소 누출률
부식성 공정에서 터보 펌프 및 루츠 펌프에 대한 이상적인 배압 펌프
UL/CSA 및 SEMI S2에 인증
먼지와 입자
공정 펌프는 입자에 노출되고 공정 챔버 및 고진공 라인으로 부터 펌프에 전달됩니다. 또한 펌프 자체에서 반응 부산물의 응축으로부터 비롯될 수 있는 입자와 퇴적물도 허용되어야 합니다. 이상적으로는 조정 가능한 가열 및 제어된 온도 패턴 을 사용하면 입자와 퇴적물의 형성을 피하는 것이 가능합니 다. 수직 방형으로 펌핑하면 모든 입자는 펌프 단계에서 떨어 져 나와 다음 단계까지 배출구 채널에 남아 있습니다. 다음 환기 및 후속 펌프 다운 후에 입자는 뒤따르는 다음 단계로 변위된 기체에 의하여 방전됩니다. 이 방전 메커니즘은 유입 구에서 출구까지 생성된 입자의 98% 이상을 배출합니다. 이 것은 공정 화학 물질 뿐만 아니라 입자까지도 포획하고 처리 하는 중앙 배기가스 청소 시스템이 펌프 출구에서 제공될 수 있음을 의미합니다. 유입 측면의 높은 정비 트랩과 필터는 부 식성, 독성, 응축 가능 매개체에 대한 진공 솔루션에서는 가 능하면 언제나 피할 수 있습니다.
부식성 기체
P 및 H 시리즈의 다단계 루츠 펌프는 반도체, 태양열, 평면 스크린 코팅 산업의 부식성 기체 공정을 위하여 특별히 설계 되었습니다. 펌프의 탄성 중합체 재료 뿐만 아니라 금속 로터 와 회전자도 높은 부식 저항 재료로 만들어졌습니다.
누출률
높은 기밀, 주변 공기 또는 배기가스 청소 시스템에서 확산되 는 기체 또는 역류 방지 밸브를 통한 문질러 떨어짐으로부터 보호 기능이 있기 때문에 다단계 루츠 펌프는 부식성 기체 어 플리케이션에 대한 완벽한 솔루션이 됩니다. 밀봉된 모터 역 시 누출 방지 개념의 일부입니다.
ACP 120은 수냉식 다단계 루츠 펌프의 초보 수준 모델입니 다. ACP 시리즈 펌프는 대량의 부식성 기체의 펌프 다운에 적합하지 않습니다. 그러나 ACP 시리즈 펌프는 최소한 부식 성 기체의 추적을 다루는 데에 사용될 수 있습니다. 이 경우 에 불활성 기체 커튼으로 베어링이 보호되는 곳에 불활성 기 체 퍼지가 사용되고, 공정 기체는 펌프 단계에 불활성 기체를 도입함으로써 희석됩니다.
ACP 120은 독립형 펌프로 작동되거나 이상적인 산업용 솔 루션이면서 반도체 산업용 부식성 기체 버전의 설계로부터 장점을 따온 ACG 600 펌핑 스테이션으로써 루츠 펌프와 결 합하여 작동될 수 있습니다. ACP/ACG 펌프는 그들의 마찰 없는 설계를 통한 세정 공정에 이상적으로 적합합니다. 이들 은 탁월한 장기적 안정성과 긴 정비 간격을 달성합니다
반도체 산업용 락 펌프는 지정 시 “부하 락”을 나타내는 “L”이 있습니다. 위에서 설명된 ACP 120과는 대조적으로 한 개의 하우징과 한 개의 제어기가 장착되어 있습니다. 주파수 변환 기는 본선 전압과 주파수에 상관 없이 전세계적으로 재생 가 능한 성능 매개변수를 보장합니다.
L-시리즈 펌프는 작동 시간 카운터, 상태 표시등이 장착되어 있어서 국부 및 원격 제어 모드에서 작동될 수 있습니다.
유입구 및 출구 플랜지는 반도체 생산 기계의 제어 유닛에 스 스로롤 연결하게 해주는 입력-출력 인터페이스 뿐만 아니라 펌프 후면에 장착되어 있습니다. 직렬 인터페이스는 예를 들 어 펌프가 모니터링 네트워크에 연결될 수 있게 하기 위하여 선택적으로 이용 가능합니다. 수냉 연결 및 선택적인 에너지 절약 옵션 역시 펌프 후면에 위치해 있습니다(그림 4.13 참조).
펌프 하우징에 통합된 선택적인 에너지 절감 옵션(에너지 절 약, ES)은 펌프 전력 소모를 최대 50% 줄여줍니다. 그 결과 운영자의 소유 비용이 상당히 줄어듭니다. 에너지 절약 이외 에도 A 100 L ES는 7 · 10-4 hPa의 최종 압력에 도달할 수 있 습니다. 잡음 수준 역시 3dB(A) 감소합니다.
:grayscale(false):format(webp))
그림 4.12: ACP 120
:grayscale(false):format(webp))
그림 4.13: A 100 L 후면 연결
펌프 표면을 깨끗하게 유지함으로써 유닛은 적층될 수 있어 서 반도체 제작 청정실 또는 지하실에서 차지하는 공간을 최 소화할 수 있습니다. 최소 설치 면적, 적층 가능성, 대기압에 서의 높은 펌프 속도, 에너지 절약 옵션, 낮은 최종 압력과 높 은 신뢰성과 장기적 안정성의 결합으로 인하여 L 시리즈는 모든 부하 락 공정에 대한 이상적인 솔루션입니다
낮은 최종 압력과 줄어든 잡음 수준이 L 시리즈를 매력적인 분석, 연구, 개발 어플리케이션으로 만듭니다.
코팅 공정에서 특히 이 장의 도입부에서 제시된 것처럼 반도 체와 평면 스크린의 생산에서 그리고 태양열 산업에서, 진공 펌프의 내부성은 매우 중요합니다. 공정 호환성 이외에도 작 은 설치 면적과 낮은 작동 비용은 특히 중요한 펌프 매개변수 입니다. P 시리즈는 동일한 설치 면적을 유지하면서도 이전 모델에 비해 전력 입력을 최대 53% 낮춤으로써 이런 요구조 건을 충족시킵니다.
이 펌프 시리즈는 A 103 P 건식 공정 펌프에 기초하고 있습 니다. 당사는 이 시리즈에서 두 개의 모델을 선택하여 공정 압력 범위에서 펌프 속도 및 기체 처리량을 향상시키기 위하 여 루츠 펌프로 보완했습니다. 전력 입력은 A 103 P의 6단계 설계와 에너지 효율 모터로 인해 낮은 상태로 유지됩니다. A 103 P의 6단계 설계는 다양한 단계들 사이의 차압과 펌프의 전력 입력을 감소시킵니다. 6단계 이외에도 대규모 유입 단 계와 높은 회전 속도는 높은 펌프 속도와 낮은 최종 압력을 가능하게 해줍니다.
펌프 블록의 출구 측면에 직접 소음기를 설치함으로써 소형 펌프 설계가 가능하며 추가 가열 슬리브 없이 펌프 블록에 의 한 소음기의 직접 가열을 통하여 에너지 절감을 이끕니다. 전 체 펌프의 온도 제어 및 연속 모니터링 가열은 반응 부산물의 응축을 방지하기 위하여 필요합니다.
P 시리즈 대기 옵션으로 인해 펌프는 냉각수를 덜 사용할 뿐 만 아니라 작동 비용의 절감을 이끄는 공정 작업 이외의 플러 싱 기체 소모를 감소시킵니다.
광범위한 활성 및 제어 옵션은 수동 제어 모드 뿐만 아니라 시스템 제어 및 모니터링 네트워크에 연결을 통한 제어를 허 용합니다. 중요한 매개변수는 통계적인 평가를 위하여 직접 출력 및 추출될 수 있습니다.
P 시리즈는 CE 및 SEMI S2를 준수합니다.
특히 반도체 및 태양열 산업에서 진행중인 공정 개발은 사용 되는 진공 펌프에 계속 새로운 요구를 추가합니다. 입증된 다단계 루츠 펌프 기술을 기초로 하여 파이퍼 베큠은 이런 산업 부문의 공정 요구에 대해 H 시리즈로 완벽한 솔루션을 제공합니다. 공정 압력에서의 기체 처리량, 입자 허용치, 응 축 저항은 이전 펌프 솔루션에 비해 상당히 증가했습니다.
P(공정용) 시리즈 펌프와 마찬가지로 H 시리즈(거친 공정 용) 펌프는 온도 제어 및 불활성 기체 플러싱 시스템이 장착 되어 있습니다. 하지만 공정에 대한 조정을 최적화하기위한 매개변수 범위는 P 시리즈 펌프보다 더 광범위합니다.
이 펌프 시리즈는 A 203 H 건식 공정 펌프를 베이스로 합니다. 당사는 이 시리즈 중 세 가지 모델을 추가하여 공정 압력 범위에서 흡입 용량 및 가스 처리량 향상을 위해 진공 부스터 펌프를 보완했습니다. 특정 재료를 사용하기 때문에 이러한 펌프의 부식성 가스 장비 덕분에 NF3와 같은 강한 산화제를 사용할 수 있습니다. 펌프의 넓은 온도 범위를 통해 저온에서의 텅스텐 침착 또는 고온에서의 질화물 침착과 같은 매우 다양한 공정 적용이 가능합니다. 고효율 모터는 낮은 압력에서 에너지 절약 효과를 제공하며 높은 토크로 인해 펌프 고장 시간 후 우수한 기동 특성을 제공합니다.
이 펌프 시리즈는 A 203 H 건식 공정 펌프에 기초하고 있습 니다. 당사는 이 시리즈에서 세 개의 추가 가모델을 선택하 여 공정 압력 범위에서 펌프 속도 및 기체 처리량을 향상시 키기 위하여 루츠 펌프로 보완했습니다. 특수 재료의 사용으 로 인하여 이 펌프의 부식성 기체 장비는 NF 3 와 같은 강력한 산화제의 사용을 가능하게 해줍니다. 펌프의 온도 범위가 넓 기 때문에 펌프는 낮은 온도에서 텅스텐 퇴적 또는 높은 온 도에서 질화물의 퇴적과 같은 매우 다양한 공정에 적응할 수 있습니다. 매우 효율적인 모터는 낮은 온도에서 에너지 절감 을 이끌고 자체의 높은 토크 덕분에 펌프 정지 시간 이후에 양호한 시작 속성을 제공합니다.
A3H 시리즈의 모델들은 동일한 인터페이스와 동일한 매개 체 연결 덕에 P 시리즈의 펌프들과 이상적으로 호환 가능합 니다. 이것은 기존 생산 공장에서 한 개의 공정이 바뀔 경우 펌프 교환으로 인한 최소 설치 작업으로 최적화된 펌프 솔루 션을 얻을 수 있음을 의미합니다.
:grayscale(false):format(webp))
그림 4.14: A 203 H 횡단면
:grayscale(false):format(webp))
그림 4.15: A 1503 H 공정 펌핑 스테이션
세 번째 루츠 단계로 A 1803 H 모델을 보완하면 소형이면서 극히 강력한 펌핑 스테이션에 CVD 공정에 대한 최대 펌프 속도를 제공합니다. AD 73 KH는건식 공정 펌프에 대한 자체 프레임에서 정격 펌핑 속도가 4,500 m³ · h-1 인 주파수 제어 루츠 펌프를 사용합니다. 모듈 구조이므로 설치가 쉬우며, 펌 핑 스테이션에서 다양한 펌프가 개별적으로 선택되어 정비 작업 시 유지될 수 있습니다. 유입 측면의 루츠 펌프 주파수 변환기는 광범위한 기체 처리량 범위에 대한 공정 매개변수 와 매우 다양한 공정 기체에 대한 조정을 허용합니다.
파이퍼 베큠은 다양한 산업 부문에서의 동적 공정 개발을 항 상 모니터링하고 있으며 앞으로도 이런 요구조건을 충족시 키기 위하여 최적화된 펌프 솔루션 제공을 계속 할 것입니다. 초기 개요는 8장, 오염 관리 솔루션에서 제공됩니다.
4.6.6.1 수냉식 공정 펌프
ACP 120 / ACP 120 G의 펌프 속도와 최종 압력은 루츠 펌 프는 루츠 펌르와 결합하면 더 증가할 수 있습니다. 최적화된 펌프 버전은 더 큰 부피에서 사용 가능합니다.
제공된 기술 데이터는 본선 주파수가 50Hz일 경우입니다. 표 준은 1 m3 을 넘지 않습니다. A 203 H 및 A 1803 H 유형 펌프 의 특별 버전은 부피가 최대 50 m3 일 경우에 적합합니다.
Multi-stage Roots pumps for noncorrosive applications | |||
모델 | 펌프 속도 | 퍼지 기체 있는/없는 최종 압력 | 어플리케이션 |
ACP 120 | 95 m³ · h-1 | 3 · 10-2 hPa | 최대 1 m3 의 부피를 가진 부하 락 및 이송 챔버, 비부식성 기체, 주요 기체, 극저온 펌프의 재생, 비부식성 기체가 있 는 터보 펌프용 배압 펌프 |
ACP 120 G | 95 m³ · h-1 | 9 · 10-2 with 35 slm purge gas | |
A100 L | 100 m³ · h-1 | 6.6 · 10-3 hPa | |
A100 L ES | 100 m³ · h-1 | 7 · 10-4 hPa | |
표 4.16: 비부식성 어플리케이션용 수냉식 다단계 루츠 펌프의 성능 데이터
부식성 어플리케이션용 다단계 루츠 펌프 | |||
모델 | 펌프 속도 | 퍼지 기체 있는/없는 최종 압력 | 어플리케이션 |
A 103 P | 120 m³ · h-1 | 6.5 · 10-3 hPa 2.6 · 10-2 hPa with 20 slm purge gas | 건식 식각(산화물과 폴리머) 회분화 스트리핑 RTP 주입 |
A 603 P | 480 m³ · h-1 | 5 · 10-4 hPa 2 · 10-3 hPa with 20 slm purge gas | |
A 1003 P | 900 m³ · h-1 | 3 · 10-4 hPa 1 · 10-3 hPa with 20 slm purge gas | |
표 4.17: 비부식성 어플리케이션용 P 시리즈 수냉식 다단계 루츠 펌프의 성능 데이터
부식성 어플리케이션용 다단계 루츠 펌프(거친 공정) | |||
모델 | 펌프 속도 | 퍼지 기체 있는/없는 최종 압력 | 어플리케이션 |
A 203 H | 130 m³ · h-1 | 6 · 10-2 hPa 5 · 10-1 with 50 slm purge gas | 금속 식각 CVD(PECVD, SACVD, LPCVD) ALD 에피택시 건식 식각 |
A 803 H | 600 m³ · h-1 | 1 · 10-3 hPa 1 · 10-2 hPa with 50 slm purge gas | |
A 1503 H | 1,100 m³ · h-1 | 2 · 10-3 hPa 9 · 10-3 hPa with 50 slm purge gas | |
A 1803 H | 1,650 m³ · h-1 | 2 · 10-3 hPa 9 · 10-3 hPa with 50 slm purge gas | |
AD 73 KH | 4,700 m³ · h-1 | 8 · 10-4 hPa 3 · 10-3 hPa with 50 slm purge gas | |
표 4.18: 비부식성 어플리케이션용 H 시리즈 수냉식 다단계 루츠 펌프의 성능 데이터(거친 공정)
4.6.6.2 부속품
지진 브래킷 키트
지진 브래킷 키트는 펌프가 작동 현장에서 제자리에 고정되 게 해주고, 지진으로 인한 모든 변위와 고진공 라인의 분리를 방지해줍니다.
원격 제어
원격 제어는 펌프 매개변수가 펌프의 통합 메모리에 설정되 어 저장되게 해줍니다. 펌프 매개변수는 실시간으로 변위될 수 있습니다.
인터페이스
C펌프와 시스템 제어 사이의 고객 맞춤형 인터페이스는 생산 공장 제어 유닛에 링크를 제공하도록 만들어질 수 있습니다.
물 연결
펌프에 물 연결 및 냉각수 라인에 연결할 적절한 급속 피팅 커플링은 가능하면 최고의 부식 안정성을 제공하기 위하여 황동 및 스테인레스강 버전에서 사용 가능합니다.
나열된 부속품은 이 장에서 설명된 모든 유형의 펌프에 권장 또는 사용 가능한 것은 아닙니다. 추가 인터페이스, 전기 안 전, 연결 또는 안전한 배송을 위한 추가 부속품은 요구 시 공 급될 수 있습니다.
