PECVD, SACVD

CVD bzw. chemische Gasphasenabscheidung ist eine Technologie, die zur Abscheidung dünner Schichten verwendet wird, indem das Substrat einem oder mehreren flüchtigen Precursoren ausgesetzt wird, die mit der Oberfläche reagieren und/oder sich dort zersetzen. Es wird Plasma (bei PECVD) oder Temperatur (bei SACVD) verwendet, um die chemische Reaktionsgeschwindigkeit zu erhöhen.

Applikationsanforderungen

  • Saugleistungsbereich von 600 bis 3.000 m3/h

  • Langanhaltende stabile Vakuumleistung zur Optimierung der Ausbeute

  • Kondensationsmanagement durch Hochtemperaturbetrieb

  • Thermische Stabilität der Precursoren durch Niedrigtemperaturbetrieb

  • Korrosionsbeständigkeit durch fortschrittliche Beschichtungstechnik

  • Fähigkeit zur Pulverbehandlung

  • Hohe Prozesslebensdauer bei niedrigen Betriebskosten: Geringer Stromverbrauch, niedrige Reparaturkosten

Video Mehrstufige Wälzkolbenpumpen der A4 Serie

Mehrstufige Wälzkolbenpumpen der A4 Serie

Wie funktioniert es?

Der PECVD-Prozess ermöglicht eine Reduzierung der Substrattemperatur, die für das Bauelement entscheidend ist, während die SACVD bei hoher Temperatur und hohem Druck für hohe Abscheidungsraten verwendet wird. Mit einer besseren Stufenabdeckung als die PVD-Technologie werden PECVD und SACVD hauptsächlich zur Abscheidung der kritischen isolierenden dielektrischen Schichten verwendet, die die elektrische Struktur isolieren und schützen, wie z. B. Siliziumoxide, Siliziumnitride und Low-K.

Vakuumanforderungen

Mit Ausnahme der hochdichten Plasma-Abscheidung (HDPCVD) arbeiten die meisten Prozesse unter Vorvakuum im mbar-Druckbereich. Während der chemischen Reaktion in der Kammer reagieren Precursoren zu Nebenprodukten, die durch Vakuumpumpen abgepumpt werden. Solche Nebenprodukte stellen in der Regel eine große Herausforderung für die Trockenpumpen dar, da ihre Beschaffenheit je nach Art der verwendeten Precusoren variieren kann: stark korrosiv, kondensierbar oder auch fest, in einigen Anwendungen können sogar alle diese Eigenschaften gleichzeitig vorkommen.

Produktportfolio

Pfeiffer Vacuum bietet eine breite Palette von Trockenpumpen, die für diese Herausforderungen entwickelt wurden: Ein extra abgestimmtes Wärmemanagement verhindert Ablagerungen, fortschrittliche Materialien reduzieren die Korrosionsrate und das mehrstufige Wälzkolbenprinzip sorgt für die Pulverbehandlung.