APR 4300
APR 4300은 300 mm 웨이퍼와 이의 운송 상자(FOUP)의 오염을 분자 수준에서 제거하고 대기 시간 동안 이를 보호합니다.
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신뢰할 수 있는 오염 제거와 오염 방지
APR은 웨이퍼의 오염 제거 및 대기 시간 동안의 보호를 위한 시스템입니다. 공기 중 분자 오염(AMC)은 반도체 생산에서 산출량과 품질을 낮춥니다.
APR은 웨이퍼 표면과 운송 상자에 오염된 유기 및 무기 분자가 흡착되는 것을 효과적으로 방지합니다. 챔버를 APR로 대피함으로써 흡착 가능성이 대폭 줄어듭니다. 이런 식으로 반도체 생산 산출량을 상당히 증가시키고, 개별 공정 단계간 대기 시간을 최적화할 수 있습니다.
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팜플렛 오염 관리 솔루션
APR은 어떻게 작동합니까?
FOUP는 2개의 부하 포트에서 수동으로 또는 오버헤드 호이스트 이송장치(OHT)를 통해 이송할 수 있습니다. APR은 웨이퍼 및 FOUP의 오염 제거를 위한 적층식 진공실이 4개인 시스템으로서 신뢰할 수 있는 로봇이 조작합니다. 모든 진공실에는 진공 펌핑 스테이션, 기체 상자, 조작 패널, 전원 공급 제어기가 장착되어 있습니다. 진공실은 개별적으로 작동시킬 수 있습니다. 진공실에 웨이퍼가 들어있는 FOUP를 적재하면 진공실의 압력이 0.1 mbar로 떨어집니다. 그러면 오염 제거 공정이 적용됩니다. 그러고서 깨끗한 질소로 진공실을 세척하고 대기압으로 되돌립니다. 이제 웨이퍼와 운송 상자가 하루 이상 동안 오염으로부터 보호됩니다.
APR - 오염 관리 솔루션
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