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[1]

Paul Scherrer Institut, Villingen, CH

[2]

DIN 28400-1, Ausgabe: 1990-05, Titel (deutsch): Vakuumtechnik; Benennung und Definitionen; Allgemeine Benennungen.

[3]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 667

[4]

G. M. Barrow, G. W. Herzog (bearb.), Physikalische Chemie Teil 1: Atome, Moleküle, Kerne, 5. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 2 ff

[5]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 17

[6]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 23

[7]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 25

[8]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, Tabelle 17.5, S. 667

[9]

Christian Edelmann, Vakuumphysik, Spektrum Akademischer Verlag, Heidelberg/Berlin 1988, S. 38

[10]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, Tabelle 17.6, S. 668

[11]

Zur Herleitung siehe Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 84

[12]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 83

[13]

Christian Edelmann, Vakuumphysik, Spektrum Akademischer Verlag, Heidelberg/Berlin 1988, S. 132

[14]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 690

[15]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden

[16]

Christian Edelmann, Vakuumphysik, Spektrum Akademischer Verlag, Heidelberg/Berlin 1988

[17]

Jobst H. Kerspe, Vakuumtechnik in der industriellen Praxis, 3. Auflage, expert Verlag, Renningen 2003

[18]

John F. O'Hanlon, A user's guide to vacuum technology (3rd Edition). Wiley-Interscience, Hoboken, New Jersey, 2003

[19]

J. Delafosse, G. Mongodin, Les calculs de la technique du vide, Société française des ingénieurs et techniciens du vide, 1961

[20]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 9. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 272

[21]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 9. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 273 ff

[22]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 9. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 150

[23]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 9. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden. S. 638

[24]

G. Schweitzer, H. Bleuler, A. Traxler, Active Magnetic Bearings, vdf Hochschulverlag AG, 1994

[25]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 9. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 327–331

[26]

Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 9. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 321–325

[27]

Bayard, R. T. u. D. Alpert, Rev. Sci. Instr. 21 (1950) S. 571

[28]

Hobson und Redhead, Can. J. Phys. 36 (1958) S. 271

[29]

Dawson, Peter H., Quadrupole Mass Spectrometry and its Applications, American Institute of Physics (1997)

[30]

Gross, Jürgen H., Mass Spectrometry: A Textbook, Springer (2011)

[31]

Fachbericht Balzers BG 800003, Das Funktionsprinzip des Quadrupol-Massenspektrometers (1990)

[32]

Redhead, P. A., Hobson, J. P. and Kornelsen, E. V., The Physical Basis of Ultrahigh Vacuum, Chapman & Hall, London (1968)

[33]

DIN EN 1330-8:1998-7: Zerstörungsfreie Prüfung – Terminologie – Teil 8: Begriffe der Dichtheitsprüfung

[34]

DIN EN 1779-8:1999-10: Zerstörungsfreie Prüfung – Dichtheitsprüfung – Kriterien zur Auswahl von Prüfmethoden und -verfahren

[35]

G. E. Moore: Cramming more components onto integrated circuits. In: Electronics. 38, Nr. 8, 1965, S. 114–117

[37]

P. Gonzáles et al.: FOUPs Polymers Against AMCs: The HF Case, Future Fab international, issue 42

[38]

Jin, Weidong, Study of Plasma-Surface Kinetics And Feature Profile Simulation of Poly-Silicon Etching in Cl2/HBr Plasma, M.I.T., Dept. of Chemical Engineering