Dünnschichttechnologie

Die Dünnschichtabscheidung wird für eine Reihe von Komponentenprodukten, wie z. B. Brillen, Mobiltelefone, Bildschirmdisplays usw., verwendet. Sie kann mit zwei Methoden hergestellt werden: physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) oder chemische Gasphasenabscheidung (CVD). Das Schichtsystem wird mit einer Gesamtdicke von weniger als 10 µm direkt auf die Bauteiloberfläche aufgebracht. Ohne Vakuum wäre dies nicht machbar. Pfeiffer Vacuum bietet das richtige Know-how und verfügt über das Portfolio zur Unterstützung Ihrer Anwendungen.